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真空鍍膜機(jī)鍍膜過(guò)程中,常見(jiàn)的幾種離子源
為了提高工件的附著力、結(jié)合力、膜結(jié)構(gòu),許多真空鍍膜機(jī)在鍍膜過(guò)程中都配備了離子源。
雖然離子源有許多類型,但其目的無(wú)非是在線清洗,改善鍍表面的能量分布和調(diào)制以增加反應(yīng)氣體的能量。離子源可以大大提高膜與基體之間的結(jié)合強(qiáng)度,也可以提高膜本身的硬度和耐磨性。如果電鍍工具的耐磨層一般較厚,且膜厚均勻性不高,可以采用離子電流較大、能級(jí)較高的離子源,如霍爾離子源或陽(yáng)極離子源。
陽(yáng)極層離子源,原理類似霍爾離子源。環(huán)形(矩形或圓形)窄縫外加增強(qiáng)磁場(chǎng),在陽(yáng)極的作用下使工作氣體電離并發(fā)射到工件上。陽(yáng)極層離子源可以制成非常大和長(zhǎng),特別適用于建筑玻璃等大型零件的電鍍。陽(yáng)極層離子源離子電流也較大。但是,離子流是發(fā)散的,能級(jí)分布太寬。一般適用于大型工件、玻璃、耐磨、裝飾工件。但在先進(jìn)光學(xué)涂層中的應(yīng)用并不多。
該真空鍍膜機(jī)配備霍爾離子源,陽(yáng)極與強(qiáng)軸向磁場(chǎng)協(xié)同使工藝氣體電離。這種軸向磁場(chǎng)的強(qiáng)烈不平衡將氣體離子分離,形成離子束。由于軸向磁場(chǎng)太強(qiáng),霍爾離子源離子束需要補(bǔ)充電子以中和離子流。一種常見(jiàn)的中和源是鎢絲(陰極)。